誘導加熱の利点

高周波装置は、誘導加熱の利点を活かすことで多種多様な用途に使用できます。誘導加熱の利点は下記のとおりです。

  • 1.自己発熱なので、熱効率がよい。
  • 2.急速加熱ができるので酸化が極めて少ない。
  • 3.局部加熱ができる。
  • 4.硬化層深さの選定が自由(周波数の選定により)。
  • 5.加熱のON・OFFが自由に設定でき、自動化が容易。
  • 6.作業環境がよい。
  • 7.クリーン加熱ができる。
  • 8.均熱加熱ができる。
  • 9.小型・軽量で小スペース設置が可能。
  • 10.周囲が高温にならない。
  • 11.加熱精度が上げられる。
  • 12.化学反応を起こさない。
  • 13.低温~高温までの昇温が可能(~3000℃も可能)。
  • 14.操作性がよい。
  • 15.雰囲気中、真空中の加熱が容易。
  • 16.どのような金属でも加熱が可能。
  • 17.カーボン材・シリコン材の加熱が可能。